Halvleder

Halvleder

Intensiver produksjonsfortjenesten med komplette løsninger til avansert halvlederfermstilling.

På halvlederfabrikker kan mikrokontaminering gi store problemer. Camfil tilbyr et bredt spekter av løsninger – partikkel-forfilter, HEPA og ULPA filter og løsninger til AMC-kontroll – for å reduserer partikulære og molekylære konsentrasjoner i renrom til ISO klasse 1 nivå for partikler og  sub-ppb for AMC.

AMC-filter og -kontroll er viktigere i renromsfiltrering enn noensinne

Luftbåren molekylær forurensning (AMC) utgjør en særlig utfordring for halvlederproduksjon i små dimensjoner. De uønskede kjemiske reaksjoner fra syrer, baser, organiske stoffer, ildfaste materialer og tilsetningsstoffer kan påvirke waferoverflater og prosessutstyrsoptikk til å lage defekter under chip-produksjon og redusere effektivitet på utstyr og verktøy.

AMC blir stadig viktigere i forbindelse med kritiske produksjonsprosesser i renrom. Fordi spesifikasjonene blir mer krevende og størrelsene på enhetene blir mindre, stilles prosesskontrollen overfor et stort press. Wafers kan tilbringe en hel måned på en fabrikk og gjennomgå hundrevis av prosesser innen de installeres i et sluttprodukt. Enhver liten forurensningspåvirkning i denne prosesskjeden kan få alvorlige konsekvenser for fabrikkens lønnsomhet.

En annen utfordring ligger i generaliseringen av større waferdimensjoner, noe som øker omkostningene ved individuelle wafers, og øker behovet for nanopartikkel- og AMc-beskyttelse på verktøy. Dessuten legger stadig stigende omkostninger på feilfrie masker som brukes i EUV og multi-mønster DUV-litografier større press på kontrollsystemer for fabrikker, samt minimiljøer som inspeksjonsutstyr og maskeholdere.  

Beskytt prosessutstyr og wafers mot nanopartikler og luftbåren molekylærkontaminering

Camfils løsninger gir felt- og laboratoriebevist beskyttelse i halvlederproduksjonsmiljø, herunder litografi, etsing, spredning, metallisering,  thin-film, ionimplantasjon, inspeksjonsverktøy og retikkel- eller waferlagringsområder.

·       Luftfilter til prosessverktøy

·       Luftfilter til renrom

·       Forfiltrering til scanningssystemer

Energieffektive og lavutslippsløsninger til anleggsystemer

Camfils forfiltersortiment til partikkelfiltrering sikrer det laveste energiforbruket i luftbehandlingsaggregater, samtidig med at HEPA-filter beskyttes mot tilstopping og uten å frigi bor. Camfils HEPA- og ULPA-filter er designet for å frigjøre minst mulig mengder organiske forurensninger (såkalt lav avgassing), etter år med utvikling av limstoffer og mediakjemiske egenskaper. Avtrekkssystemer for wafeskjæring samt gass-scrubbere for generelle backup systemer for avtrekk beskytter miljøet mot prosessforurensning.

  • Borfritt forfilter med syntetisk medium
  • Forfilter med meget lavt energiforbruk
  • HEPA- og ULPA-filter med lav avgassing
  • Industrifiltrering (APC) og gass scrubbers for renere avtrekksluft

 

Latest articles

CAMFIL CITY: en virtuell verden med kunnskap om renluftsløsninger

Created mandag 19. september 2022

Det er ikke alle våre kunder som er eksperter på luftfiltrering, og ikke trenger de å være det heller. I Camfil City kan du lett tilegne deg basiskunnskaper om våre renluftsløsninger og hva de kan gjøre for både helsen og produktiviteten på arbeidsplassen.

Take a breath Offentlige & Kommersielle Bygninger Mat & Drikke Gassturbiner Elektronikk og optikk Bærekraft Ekspertise og Webinarer Viruskontaminering Forskrifter & Standarder Kundehistorier Innovasjon, Teknologi & Forskning Luftkvalitet Luftrensere Helsevesen og Livsvitenskap Maskineri & Produksjon

Hva er følgene av korrosjon?

Created fredag 3. mai 2019

Noen av effektene av korrosjon er betydelige skader på historiske monument. Korrosjon forårsakes av luftforurensning - et stadig økende problem over hele verden. 

Elektronikk og optikk