為先進半導體製造提供全面解決方案,提高您的製程良率。
在半導體工廠中,微污染會帶來嚴峻的挑戰。Camfil為半導體行業提供廣泛的解決方案,包括粉塵預濾器、HEPA和ULPA濾網以及AMC控制解決方案等,可降低無塵室粉塵和化學氣體分子污染物的濃度:將粉塵降至ISO 1級水準 ,將AMC降至ppb級別以下。
化學氣體分子污染物(AMC)對小尺寸的半導體製造有著特殊的挑戰。酸性氣體、鹼性氣體、有機物、高沸點有機物和摻雜性有機物之間產生不必要的化學反應,影響晶圓表面和工藝設備的光學器件,從而在晶片生產過程中產生不良品,降低機台設備的生產效率。
AMC在關鍵無塵室製程中日益發揮著重要的作用。隨著製程要求越來越高,器件尺寸縮小,潔淨控制面臨巨大壓力。晶圓可能要在工廠內存放整整一個月的時間,在最終產品出貨之前經歷數百個潔淨製程。在該過程中任何微小的污染都會對晶圓廠的總良率產生巨大影響。
另一個挑戰在於,隨著大尺寸晶圓的普及,單個晶圓的成本增加,針對機台控制納米級顆粒物和AMC污染的需求也相應增加。此外,在EUV機台和多重曝光DUV光刻機中使用的無缺陷掩模的成本上升,給廠務端的系統控制以及量測機台和掩膜版存儲等微環境的污染控制系統帶來了壓力。
Camfil解決方案在半導體製造環境中經過現場和實驗室驗證,包括光刻、蝕刻、擴散、金屬化、薄膜、離子注入、量測機台以及光罩或晶圓存儲區域。
Camfil的粉塵預濾器系列產品保證送風空調箱的最低能耗,保護HEPA濾網,防止硼釋放。經過多年的發展,粘合劑技術和濾料化學性質不斷完善;Camfil HEPA和ULPA濾網能夠盡可能減少有機污染物的揮發(即低揮發性)。通過用於晶圓切割的排氣處理系統以及用於一般排氣備用系統的氣體淨化機組,保護您的環境免受製程污染。
保護環境和人員免受工業過程中釋放的危險或高濃度顆粒和分子污染物的影響,符合當地安全法規並降低廢氣過濾系統的運營成本。
無塵室或小型環境中的微電子製程需要防止顆粒和分子氣態污染物。 製程包括光刻,塗布機開發,蝕刻,擴散,金屬化,薄膜,離子注入,檢查工具和光罩儲料器。
再循環空氣單元用於為設施提供清潔和回火的空氣,作為潔淨吊頂系統和風機過濾單元的補充或替代。再循環空氣需要過濾以保護人員,過程和產品
無塵室天花板箱體旨在為無塵室設備、製程和產品提供高水準保護,免受分子污染物(化學氣體),奈米顆粒和微米顆粒物損害。 根據無塵室設計,無塵室使用層流或非單向流送風設備。
空調箱為工業提供經過過濾處理的潔淨空氣,來保護設施系統的關鍵零件,用於產生房間正壓並補償排氣。 補充的空氣需要適當的過濾,以保護盤管、管道、人員、製程和產品。
並不是所有購買我們產品的人都是空氣過濾方面的專家,他們也不需要成為專家。康法 (camfil)的目的是讓每個人都有機會了解我們的潔淨空氣解決方案能為他們做些什麼。
Energy and Power Systems Electronics and optics Life science and healthcare Manufacturing and Machinery Sustainability Air quality Food and beverage Innovation Technology and Research Commercial and Public buildings Education and Experience Standard and regulations Air cleaners and air purifiers Take a breath Virus Contamination Control Case Studies從製藥、醫院、微電子,到食品和飲料行業,各種不同的行業都需要HEPA過濾。了解HEPA過濾需求的變化趨勢,HEPA過濾在過去幾年的進展,以及如何識別和降低潔淨空氣需求的相關成本。
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