Semiconductores

Semiconductores

Mejore el rendimiento de sus procesos con soluciones completas para la fabricación avanzada de semiconductores.

En las fábricas de semiconductores, la microcontaminación puede plantear serios problemas. Camfil ofrece una amplia gama de soluciones (prefiltros de partículas, filtros HEPA y ULPA y soluciones de control de la CMS) para reducir las concentraciones moleculares y de partículas de las salas blancas a los niveles ISO clase 1 en el caso de las partículas y de subpartes por billón en el caso de la CMS.

El control y los filtros CMS, más importantes que nunca en la filtración de sala blanca

La contaminación molecular en suspensión (CMS) presenta dificultades especiales en la fabricación de semiconductores de pequeñas dimensiones. Las reacciones químicas no deseadas de ácidos, bases, compuestos orgánicos, refractarios y dopantes pueden afectar a las superficies de las obleas y a la óptica de los equipos de procesos, con lo que se crean defectos durante la producción de chips y se reduce la eficiencia de los equipos y las herramientas.

La CMS es cada vez más importante en los procesos de fabricación críticos en salas blancas. A medida que las especificaciones se vuelven más exigentes y los tamaños de los dispositivos disminuyen, el control de los procesos se enfrenta a una presión enorme. Las obleas pueden pasar todo un mes dentro de la fábrica, sometiéndose a cientos de procesos antes de enviarse como parte del producto final. Cualquier efecto mínimo de la contaminación en esta cadena de procesos puede tener consecuencias graves para la producción general de la fábrica.

Otra dificultad estriba en la generalización de tamaños mayores de obleas, lo que aumenta el coste de las obleas individuales y la necesidad de protección contra la CMS y las nanopartículas a nivel de las herramientas. Además, los costes cada vez mayores de las máscaras sin defectos empleadas en la litografía EUV y DUV de patrones múltiples añaden presión a los sistemas de control de la contaminación de las instalaciones, así como en microentornos como los equipos de inspección y los repositores de máscaras.

Proteja sus equipos de procesos y obleas contra las nanopartículas y los contaminantes moleculares en suspensión

Las soluciones de Camfil proporcionan una protección demostrada (tanto en laboratorio como en la práctica) para entornos de fabricación de semiconductores, incluidos los entornos de litografía, grabado, difusión, metalización, película fina, implantación de iones, herramientas de inspección y almacenamiento de retículas u obleas.

  • Filtros de aire para herramientas de procesos
  • Filtros de aire para sala blanca
  • Sistemas de prefiltro de escáner

Soluciones de alta eficiencia energética y baja desgasificación para sistemas de instalaciones

La gama de prefiltros de partículas de Camfil garantiza un consumo de energía mínimo en las unidades de reposición de aire, además de proteger los filtros HEPA de la obstrucción sin liberar boro. Los filtros HEPA y ULPA de Camfil están diseñados para liberar el mínimo posible de contaminantes orgánicos (baja desgasificación), algo que se consigue tras años de desarrollo de las propiedades químicas de adhesivos y materiales filtrantes. Los sistemas de extracción de aire para el corte de obleas, así como los depuradores de gases para los sistemas generales de extracción auxiliares, protegen el entorno de la contaminación de los procesos.

  • Prefiltros sintéticos libres de boro
  • Prefiltros con muy bajo consumo de energía
  • Filtros HEPA y ULPA de baja desgasificación
  • Colectores de polvo y depuradores de gases para un aire de salida más limpio