เซมิคอนดักเตอร์
ปรับปรุงกระบวนการผลิตของคุณด้วยโซลูชั่นที่สมบูรณ์สำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง.
In เซมิคอนดักเตอร์ไมโครคอนโทรลเลอร์อาจทำให้ก่อเกิดปัญหา แคมฟิลขอนำเสนอโซลูชั่นที่หลากหลาย – ตัวกรองอนุภาคล่วงหน้าตัวกรอง HEPA และ ULPAและโซลูชั่นการควบคุม AMC – เพื่อลดฝุ่นละอองในห้องคลีนรูมและความเข้มข้นของโมเลกุลสู่ระดับ ISO อนุภาคขนาดเล็กและ Sub-ppb สำหรับ AMC
ผลิตภัณฑ์ที่แนะนำ
ผลิตภัณฑ์ต่อไปนี้ได้รับการแนะนำตามการใช้งานที่คุณเลือก
AMC กรองและควบคุมที่สำคัญยิ่งกว่าเดิมในการกรองคลีนรูม
การปนเปื้อนโมเลกุลในอากาศ (AMC) นำเสนอความท้าทายพิเศษในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ในขนาดเล็ก
ปฎิกิริยาทางเคมีที่ไม่พึงประสงค์ของกรด,สารอินทรีย์,วัสดุทนไฟและสารเจือปนอาจส่งผลกระทบต่อพื้นผิวและเลนส์อุปกรณ์กระบวนการผลิตเพื่อสร้างข้อบกพร่องในระหว่างการผลิตและลดประสิทธิภาพของเครื่องมือ
AMC กำลังมีความสำคัญต่อเนื่องในกระบวนการคลีนรูมที่สำคัญ เมื่อความต้องการมากขึ้นและขนาดของอุปกรณ์ลดลงการควบคุมกระบวนต่างอาจเกิดปัญหาอย่างมา
เวเฟอร์สามารถใช้เวลาทั้งเดือนภายในโรงงานโดยผ่านการกระบวนการหลายร้อยกระบวนการก่อนจะส่งไปยังผลิตภัณฑ์ ผลกระทบจากการปนเปื้อนเล็กน้อยในกระบวนการอาจมีผลกระทบร้ายแรง’s ผลผลิตโดยรวม
ความท้าทายอีกประการหนึ่งอยู่ที่การทำให้มีขนาดใหญ่ขึ้นซึ่งจะทำให้ต้นทุนเพิ่มขึ้นและเพิ่มความจำเป็นในการป้องกันอนุภาคนาโนและ AMC ในระดับเครื่องมือ
นอกจากนี้ค่าใช้จ่ายที่เพิ่มขึ้นที่ปราศจากข้อบกพร่องที่ใช้ใน EUV และการพิมพ์แบบ DUV หลายรูปแบบกำลังสร้างแรงกดดันให้กับระบบควบคุมการปนเปื้อนสำหรับสิ่งอำนวยความสะดวกเช่นเดียวกับสภาพแวดล้อมขนาดเล็ก เช่น อุปกรณ์ตรวจสอบ
ปกป้องอุปกรณ์ในกระบวนการและอนุภาคนาโนและการปนเปื้อนของโมเลกุลในอากาศs
โซลูชั่น แคมฟิล ให้การปกป้องภาคสนามและห้องปฎิบัติการในสภาพแวดล้อมการผลิตรวมถึงการพิมพ์ เครื่องมือตรวจสอบและพื้นที่จัดเก็บ
- เครื่องมือกรองอากาศ
- ตัวกรองอากาศครีนลูม
- แสกนเนอร์ระบบการกรอง
ประหยัดพลังงานและลดปัญหาการสิ้นเปลืองพลังงานสำหรับระบบสิ่งอำนวยความสะดวก
แคมฟิล’s แผ่นกรองระดับต้นช่วยในการช่วยพลังงานต่ำสุดในหน่วยจัดการกรองอากาศในขณะที่มีการปกป้องตัวกรอง HEPA จากการอุดตันและโบรอน. ตัวกรอง แคมฟิล HEPA และ ULPA ได้รับการออกแบบมาเพื่อปลดปล่อยสารปนเปื้อนอินทรีย์ในปริมาณต่ำสุด
