Halbleiter
Partikel und molekulare Verunreinigungen wirken sich negativ auf die Leistung und Ausbeute in der Halbleiterproduktion aus. Unsere Filtrationslösungen unterstützen eine effektive Kontrolle der Luftqualität in anspruchsvollen Reinraumumgebungen.
Die Herstellung von Mikrochips und Wafern umfasst zahlreiche hochpräzise Prozessschritte, die unter kontrollierten Reinraumbedingungen stattfinden müssen. Leistungsstarke Filtrationslösungen tragen dazu bei, stabile Produktionsbedingungen zu schaffen und Luftverunreinigungen auf Werte der ISO-Klasse 1 für Partikel und den sub-ppb-Bereich für korrosive Gase zu reduzieren.
Produktempfehlungen
Für die von Ihnen gewählte Anwendung empfehlen wir die folgenden Produkte.
Filter für per Luft übertragene Molekularverunreinigungen und deren Kontrolle sind wichtiger denn je für die Reinraumfilterung
Per Luft übertragene Molekularverunreinigungen stellen die Halbleiterherstellung in kleinen Dimensionen vor eine besondere Herausforderung.
Die unerwünschten chemischen Reaktionen von Säuren, Basen, organischen Stoffen, Feuerfestmaterialien und Dotierstoffen können Wasseroberflächen und die Optik von Prozessausrüstung beeinflussen, wodurch während der Chipherstellung Defekte auftreten und die Ausrüstungs- und Werkzeugeffizienz gesenkt werden können.
Die Problematik der per Luft übertragenen Molekularverunreinigungen wird in Reinraum- Herstellungsprozessen immer wichtiger. Mit immer anspruchsvolleren Spezifikationen und geringeren Gerätegrößen sieht sich die Prozesskontrolle einem enormen Druck ausgesetzt.
Halbleiterscheiben können sich einen ganzen Monat in einer Fabrik befinden und durchlaufen unzählige Prozesse, bevor sie in einem Endprodukt verarbeitet werden. Eine kleine Verunreinigung in diesem Prozess kann sich erheblich auf die Gesamterträge der Fabrik auswirken.
Eine andere Herausforderung ist die Vereinheitlichung von größeren Halbleiter-scheibendimensionen, die die Kosten individueller Halbleiterscheiben in die Höhe treibt und den Bedarf an Nanopartikeln und für einen Schutz vor per Luft übertragenen Molekularverunreinigungen auf Werkzeugebene steigen lässt.
Zusätzlich wirken sich die steigenden Kosten für defektfreie Masken in der EUV und Multi-Pattern-DUV Lithographie auf die Kontrollsysteme für Verunreinigungen für Einrichtungen sowie auf Miniumgebungen wie Prüfausrüstungen und Maskenanlagen aus.
Schützen Sie Ihre Prozessausrüstung und Halbleiterscheiben vor Nanopartikeln und per Luft übertragenen Molekularverunreinigungen
Die Lösungen von Camfil bieten einen im Feldeinsatz und im Labor bewährten Schutz in Umgebungen der Halbleiterherstellung, einschließlich Lithographie, Ätzen, Diffusion, Metallisierung, Dünnschichten, Ionenimplantation, Prüfwerkzeugen und Lagerbereichen von Fotomasken oder Halbleiterscheiben.
- Luftfilter für Prozesswerkzeuge
- Reinraumluftfilter
- Scanner-Vorfiltersysteme
Energieeffiziente Lösungen mit geringen Ausgasungen für Einrichtungssysteme
Die Partikel-Vorfilterreihe von Camfil gewährleistet den geringsten Energieverbrauch bei der Einrichtung von Lüftungsanlagen bei gleichzeitigem Schutz der HEPA Filter vor Verstopfung und ohne Freisetzung von Bor. Die HEPA und ULPA Filter von Camfil wurden dazu entwickelt, so wenig organische Verunreinigungen freizusetzen wie möglich (die so genannte geringe Ausgasung), und durchliefen eine jahrelange Entwicklung der Klebmittel und chemischen Eigenschaften der Medien. Abgassysteme für den Zuschnitt der Halbleiterscheiben sowie die Gaswäscher für allgemeine Abgas-Backup-Systeme schützen die Umgebung vor Prozessverunreinigungen.
