Полупроводники

Полупроводники

Повысьте производительность технологических процессов за счет использования комплексных решений для производства сложных полупроводников

На фабриках по производству полупроводников микрозагрязнение может стать сложной проблемой Camfil предлагает обширный ассортимент решений – предварительные фильтры тонкой очистки, фильтры HEPA и ULPA, а также решения для контроля взвешенного в воздухе молекулярного загрязнения, чтобы довести дисперсное и молекулярное загрязнение в чистой комнате до уровней ISO класса 1 для частиц и менее миллиардной доли для взвешенного в воздухе молекулярного загрязнения.

В системе фильтрации для чистой комнаты контроль взвешенного в воздухе молекулярного загрязнения с помощью соответствующих фильтров имеет как никогда высокое значение

Взвешенное в воздухе молекулярное загрязнение является особой проблемой при производстве полупроводников небольших размеров. Нежелательные химические реакции кислот, основ, органических веществ, огнеупорных материалов и примесей может повлиять на поверхности пластин для изготовления ИС и оптику технологического оборудования, что выльется в дефекты в процессе производства микросхем и снижение эффективности оборудования и инструментов.

Взвешенное в воздухе молекулярное загрязнение приобретает все более высокое значение в процессах производства, выполняемых в чистой комнате. По мере того, как ужесточаются технические требования, а размер устройств уменьшается, технологический контроль подвергается колоссальному давлению. Пластины для изготовления ИС могут находиться на фабрике целый месяц, проходя через сотни процессов до того, как превратятся в конечное изделие. Влияние любого мельчайшего загрязнения в данной цепочке процессов может иметь серьезные последствия для общих результатов финансовой деятельности предприятия.

Другая проблема заключается в распространении пластин больших размеров для изготовления ИС, что увеличивает стоимость отдельных пластин и обуславливает рост необходимости в защите от наночастиц и взвешенного в воздухе молекулярного загрязнения на уровне инструментов. Кроме того, растущие затраты на бездефектные маски, используемые в литографии с использованием «жесткого» или «глубокого» ультрафиолетового излучения, предъявляют повышенные требования к системам контроля загрязнения для объектов, а также мини-сред, например контрольного оборудования и стеллажей для масок.

Защитите свое технологическое оборудования и пластины для изготовления ИС от наночистиц и взвешенного в воздухе молекулярного загрязнения

Решения Camfil обеспечивают проверенную в лабораторных условиях и на реальных производствах защиту в средах производства полупроводников, включая литографию, травление, диффузию, металлизацию, нанесение тонких пленок, ионное легирование, средства контроля, а также зоны хранения промежуточных шаблонов или пластин для изготовления ИС.

  • Воздушные фильтры технологических инструментов
  • Воздушные фильтры для чистой комнаты
  • Системы предварительной фильтрации считывающих устройств

Энергоэффективные решения с низким выделением газов для систем предприятия

Ассортимент предварительных фильтров тонкой очистки Camfil обеспечивает минимальное использование энергии обработки подпиточного воздуха и защиту фильтров HEPA от засорения. И все это без выбросов бора. Годы исследований клеящих составов и химических свойств наполнителей позволили компании Camfil создать конструкцию фильтров HEPA и ULPA, обеспечивающую выброс минимально возможного количества органических загрязнений (так называемое низкое выделение газов). Системы отвода воздуха в процессе резки пластин для изготовления ИС, а также газоочистные устройства для резервных систем отвода воздуха общего назначения защищают среду от технологических загрязнений.

  • Синтетические предварительные фильтры, не содержащие бор
  • Предварительные фильтры с очень низким энергопотреблением
  • Фильтры HEPA и ULPA с низким выделением газов
  • Устройства сбора пыли и газоочистные устройства для улучшенной очистки отводимого воздуха