Luftfilter für die Halbleiterfertigung
In der Halbleiterfertigung können Nanopartikel und luftgetragene molekulare Verunreinigungen (AMC) empfindliche Prozessschritte beeinträchtigen. Camfil bietet Vorfilter, HEPA-/ULPA-Filter und passende Molekularfilter, um definierte Reinraumanforderungen in der Chip- und Waferproduktion zu unterstützen.
Bei der Herstellung von Halbleitern, Mikrochips und anderen empfindlichen elektronischen Komponenten können selbst mikroskopisch kleine Partikel und molekulare Verunreinigungen Produktionsprozesse beeinträchtigen und die Ausbeute reduzieren. Camfil bietet speziell auf die Halbleiterindustrie abgestimmte Lösungen zur Luftfiltration und Kontaminationskontrolle. Das Portfolio umfasst Partikelvorfilter, HEPA- und ULPA-Filter sowie Lösungen zur Kontrolle luftgetragener molekularer Kontaminationen (AMC). Damit können Reinräume bis ISO-Klasse 1 für Partikel und extrem niedrige Konzentrationen molekularer Verunreinigungen im Sub-ppb-Bereich erreicht werden – für zuverlässige Prozesse, weniger Ausschuss und eine konstant hohe Produktqualität.
Produktempfehlungen
Für die von Ihnen gewählte Anwendung empfehlen wir die folgenden Produkte.
AMC-Filter: Molekulare Verunreinigungen in der Halbleiterfertigung kontrollieren
Die Kontrolle luftgetragener molekularer Kontaminationen (AMC) gewinnt in der Halbleiterfertigung zunehmend an Bedeutung. Je kleiner und leistungsfähiger Halbleiterstrukturen werden, desto höher sind die Anforderungen an die Reinheit der Produktionsumgebung.
Säuren, Basen, organische Verbindungen, Dotierstoffe und andere gasförmige Kontaminationen können unerwünschte chemische Reaktionen auslösen. Diese können Waferoberflächen, Fotomasken sowie optische und andere sensible Komponenten der Prozessausrüstung beeinträchtigen. Die Folgen können Defekte, geringere Prozessstabilität und eine reduzierte Produktionsausbeute sein.
Mit immer kleineren Strukturgrößen und strengeren Fertigungstoleranzen steigt die Bedeutung einer präzisen Kontaminationskontrolle. Selbst extrem niedrige Konzentrationen luftgetragener molekularer Verunreinigungen können kritische Prozesse beeinflussen und die Qualität der gefertigten Halbleiter beeinträchtigen.
Ein Wafer kann sich mehrere Wochen in einer Halbleiterfabrik befinden und während dieser Zeit zahlreiche hochpräzise Prozessschritte durchlaufen. Verunreinigungen in nur einem dieser Schritte können nachfolgende Prozesse beeinflussen und sich erheblich auf Ertrag, Produktqualität und Produktionskosten auswirken.
Mit größeren Wafer-Durchmessern, komplexeren Strukturen und steigenden Herstellungskosten nimmt auch der wirtschaftliche Wert jedes einzelnen Wafers zu. Gleichzeitig steigen die Anforderungen an die Kontrolle von Nanopartikeln und molekularen Kontaminationen – sowohl im Reinraum als auch direkt an sensiblen Produktionsanlagen und in Mini-Environments.
Besonders anspruchsvoll ist die Kontaminationskontrolle bei modernen Lithografieverfahren wie EUV- und Multi-Pattern-DUV-Lithografie. Hochwertige Fotomasken und empfindliche optische Komponenten müssen zuverlässig vor Partikeln und molekularen Verunreinigungen geschützt werden. Dadurch gewinnt eine gezielte Luftfiltration sowohl auf Gebäudeebene als auch in Mini-Environments, Prüfgeräten und Maskenbereichen weiter an Bedeutung.
Luftfilter für Reinräume, Prozessanlagen und Mini-Environments
Die Luftfiltrationslösungen von Camfil sind auf die hohen Reinheitsanforderungen der Halbleiterindustrie ausgelegt und unterstützen eine zuverlässige Kontaminationskontrolle in Reinräumen, Prozessanlagen und Mini-Environments. Sie kommen in zahlreichen kritischen Fertigungsbereichen zum Einsatz – darunter Lithografie, Ätzen, Diffusion, Metallisierung, Dünnschichtprozesse, Ionenimplantation und Wafer-Tests sowie in Lagerbereichen für Fotomasken und Wafer. Camfil bietet unter anderem:
- Luftfilter für Prozessanlagen und Fertigungswerkzeuge
- HEPA- und ULPA-Filter für Reinräume
- Vorfiltersysteme für Scanner und sensible Prozessanlagen
Energieeffiziente Luftfiltration mit geringer Ausgasung
Die Partikelvorfilter von Camfil entlasten nachgeschaltete HEPA- und ULPA-Filter und tragen dazu bei, deren Lebensdauer zu verlängern. Gleichzeitig unterstützen energieeffiziente Filterlösungen dabei, den Energieverbrauch raumlufttechnischer Anlagen zu reduzieren und zuverlässig hohe Reinheitsstandards aufrechtzuerhalten.
Für besonders sensible Bereiche der Halbleiterfertigung bietet Camfil HEPA- und ULPA-Filter mit geringer Ausgasung. Filtermedien, Klebstoffe und weitere Materialien sind darauf ausgelegt, die Freisetzung organischer Verbindungen zu minimieren und damit das Risiko molekularer Kontaminationen in kritischen Prozessen zu reduzieren.
Ergänzend unterstützen Absaug- und Abscheidesysteme dabei, bei Bearbeitungs- und Fertigungsprozessen entstehende Partikel, Stäube und andere Verunreinigungen kontrolliert zu erfassen. So lassen sich nicht nur sensible Produkte und Anlagen schützen, sondern auch saubere und zuverlässige Produktionsbedingungen entlang des gesamten Halbleiterfertigungsprozesses unterstützen..
