Halbleiter
Verbessern Sie Ihre Prozesserträge mit Komplettlösungen für die moderne Halbleiterfertigung.
In der Halbleiterfertigung können Mikroverunreinigungen erhebliche Probleme verursachen. Camfil bietet eine breite Palette an Lösungen, darunter Partikelvorfilter, HEPA- und ULPA-Filter sowie AMC-Kontrolllösungen, mit denen sich die Partikel- und Molekülverunreinigungen in Reinräumen auf Werte der ISO-Klasse 1 für Partikel und im sub-ppb-Bereich für luftgetragene Molekülverunreinigungen reduzieren lassen.
Produktempfehlungen
Für die von Ihnen gewählte Anwendung empfehlen wir die folgenden Produkte.
Filter für per Luft übertragene Molekularverunreinigungen und deren Kontrolle sind wichtiger denn je für die Reinraumfilterung
Per Luft übertragene Molekularverunreinigungen stellen die Halbleiterherstellung in kleinen Dimensionen vor eine besondere Herausforderung.
Die unerwünschten chemischen Reaktionen von Säuren, Basen, organischen Stoffen, Feuerfestmaterialien und Dotierstoffen können Wasseroberflächen und die Optik von Prozessausrüstung beeinflussen, wodurch während der Chipherstellung Defekte auftreten und die Ausrüstungs- und Werkzeugeffizienz gesenkt werden können.
Die Problematik der per Luft übertragenen Molekularverunreinigungen wird in Reinraum- Herstellungsprozessen immer wichtiger. Mit immer anspruchsvolleren Spezifikationen und geringeren Gerätegrößen sieht sich die Prozesskontrolle einem enormen Druck ausgesetzt.
Halbleiterscheiben können sich einen ganzen Monat in einer Fabrik befinden und durchlaufen unzählige Prozesse, bevor sie in einem Endprodukt verarbeitet werden. Eine kleine Verunreinigung in diesem Prozess kann sich erheblich auf die Gesamterträge der Fabrik auswirken.
Eine andere Herausforderung ist die Vereinheitlichung von größeren Halbleiter-scheibendimensionen, die die Kosten individueller Halbleiterscheiben in die Höhe treibt und den Bedarf an Nanopartikeln und für einen Schutz vor per Luft übertragenen Molekularverunreinigungen auf Werkzeugebene steigen lässt.
Zusätzlich wirken sich die steigenden Kosten für defektfreie Masken in der EUV und Multi-Pattern-DUV Lithographie auf die Kontrollsysteme für Verunreinigungen für Einrichtungen sowie auf Miniumgebungen wie Prüfausrüstungen und Maskenanlagen aus.
Schützen Sie Ihre Prozessanlagen und Wafer vor Nanopartikeln und molekularen Verunreinigungen, die durch die Luft übertragen werden
Die Lösungen von Camfil bieten in der Praxis und im Labor bewährten Schutz in Halbleiterfertigungsumgebungen, einschließlich Lithografie, Ätzen, Diffusion, Metallisierung, Dünnfilm, Ionenimplantation, Testwerkzeugen und Lagerbereichen für Fotomasken oder Halbleiterwafer.
- Luftfilter für Prozesswerkzeuge
- Reinraum-Luftfilter
- Scanner-Vorfiltersysteme
Energieeffiziente Lösungen mit geringer Ausgasung für RLT-Anlagen
Die Partikelvorfilter von Camfil gewährleisten den geringsten Energieverbrauch in raumlufttechnischen Anlagen bei gleichzeitigem Schutz der HEPA-Filter vor Verstopfung und ohne Freisetzung von Bor. Die HEPA- und ULPA-Filter von Camfil sind so konzipiert, dass sie so wenig organische Verunreinigungen wie möglich freisetzen (geringe Ausgasung), und wurden im Laufe vieler Jahre hinsichtlich der Klebstoffe und chemischen Eigenschaften der Medien weiterentwickelt. Absaugsysteme für das Waferschneiden und Gaswäscher für allgemeine Abgasrückgewinnungssysteme schützen die Umwelt vor Prozessverunreinigungen.
