
Förbättra ert processutbyte med kompletta lösningar för avancerad halvledarframställning.
I halvledarfabriker kan mikrokontaminering medföra stora problem. Camfil erbjuder ett brett sortiment av lösningar – partikelförfilter, HEPA- och ULPA-filter och molekylärkontrollösningar – för att ta ned partikel- och molekylärkoncentrationer i renrum till ISO Klass 1-nivåer för partiklar och sub-ppb för AMC.
Följande produkter rekommenderas baserat på det valda användningsområdet.
Luftburen molekylär förorening (AMC) utgör en speciell utmaning för halvledartillverkning i små enheter.
Camfils lösningar erbjuder fält- och laboratoriebevisat skydd i halvledartillverkningsmiljöer, inklusive litografi, etsning, spridning, metallisering, tunnfilm, jonimplantat, inspektionsverktyg, och nät- och kiselskivors förvaringsområden.
Camfils serie partikelförfilter säkerställer den lägsta energiförbrukningen i tilluftsventilationssystemet samtidigt som HEPA-filtren skyddas från igentäppning och utan att frisätta Bor. Camfil HEPA- och ULPA-filter är designade för att frisätta den lägsta möjliga mängden organiska föroreningar (så kallad låg utgasning), efter år av utveckling av lim- och mediakemiska egenskaper. Frånluftsystem för skivning av kiselskivor som för gasrenare för allmänt frånluftsbackupsystem skyddar miljön från processkontaminering.