Halvleder
Intensiver produksjonsfortjenesten med komplette løsninger til avansert halvlederfermstilling.
På halvlederfabrikker kan mikrokontaminering gi store problemer. Camfil tilbyr et bredt spekter av løsninger – partikkel-forfilter, HEPA og ULPA filter og løsninger til AMC-kontroll – for å reduserer partikulære og molekylære konsentrasjoner i renrom til ISO klasse 1 nivå for partikler og sub-ppb for AMC.
Anbefalte produkter
Følgende produkter anbefales basert på applikasjonen du velger.
AMC-filter og -kontroll er viktigere i renromsfiltrering enn noensinne
Luftbåren molekylær forurensning (AMC) utgjør en særlig utfordring for halvlederproduksjon i små dimensjoner.
De uønskede kjemiske reaksjoner fra syrer, baser, organiske stoffer, ildfaste materialer og tilsetningsstoffer kan påvirke waferoverflater og prosessutstyrsoptikk til å lage defekter under chip-produksjon og redusere effektivitet på utstyr og verktøy.
AMC blir stadig viktigere i forbindelse med kritiske produksjonsprosesser i renrom. Fordi spesifikasjonene blir mer krevende og størrelsene på enhetene blir mindre, stilles prosesskontrollen overfor et stort press.
Wafers kan tilbringe en hel måned på en fabrikk og gjennomgå hundrevis av prosesser innen de installeres i et sluttprodukt. Enhver liten forurensningspåvirkning i denne prosesskjeden kan få alvorlige konsekvenser for fabrikkens lønnsomhet.
En annen utfordring ligger i generaliseringen av større waferdimensjoner, noe som øker omkostningene ved individuelle wafers, og øker behovet for nanopartikkel- og AMc-beskyttelse på verktøy.
Dessuten legger stadig stigende omkostninger på feilfrie masker som brukes i EUV og multi-mønster DUV-litografier større press på kontrollsystemer for fabrikker, samt minimiljøer som inspeksjonsutstyr og maskeholdere.
Beskytt prosessutstyr og wafers mot nanopartikler og luftbåren molekylærkontaminering
Camfils løsninger gir felt- og laboratoriebevist beskyttelse i halvlederproduksjonsmiljø, herunder litografi, etsing, spredning, metallisering, thin-film, ionimplantasjon, inspeksjonsverktøy og retikkel- eller waferlagringsområder.
- Luftfilter til prosessverktøy
- Luftfilter til renrom
- Forfiltrering til scanningssystemer
Energieffektive og lavutslippsløsninger til anleggsystemer
Camfils forfiltersortiment til partikkelfiltrering sikrer det laveste energiforbruket i luftbehandlingsaggregater, samtidig med at HEPA-filter beskyttes mot tilstopping og uten å frigi bor. Camfils HEPA- og ULPA-filter er designet for å frigjøre minst mulig mengder organiske forurensninger (såkalt lav avgassing), etter år med utvikling av limstoffer og mediakjemiske egenskaper. Avtrekkssystemer for wafeskjæring samt gass-scrubbere for generelle backup systemer for avtrekk beskytter miljøet mot prosessforurensning.
