Halfgeleider
Verhoog uw procesopbrengst met complete oplossingen voor geavanceerde halfgeleiderproductie.
In de halfgeleiderfabricage kan microcontaminatie enorme problemen veroorzaken. Camfil biedt een breed assortiment aan oplossingen – voorfilters voor deeltjes, HEPA- en ULPA-filters en AMC-controle-oplossingen – om de concentraties van deeltjes en moleculen in cleanrooms te verlagen tot ISO klasse 1 niveaus voor deeltjes en sub-ppb voor AMC.
Aanbevolen producten
De volgende producten worden aanbevolen op basis van de door u gekozen toepassing.
AMC-filters en controle belangrijker dan ooit in cleanroomfiltratie
Door de lucht verspreide moleculaire verontreiniging (AMC) vormt een speciale uitdaging voor de productie van halfgeleiders in kleine dimensies.
De ongewenste chemische reactie van zuren, basen, organische stoffen, vuurvaste materialen en doteermiddelen kunnen wateroppervlakken en optische procesapparatuur beïnvloeden waardoor defecten tijdens de chipproductie kunnen ontstaan en de efficiëntie van apparatuur en gereedschap kan worden aangetast.
AMC wordt steeds belangrijker in essentiële cleanroomproductieprocessen. Met de steeds veeleisender wordende specificaties en de steeds afnemende grootte van apparaten neemt de druk op procescontrole enorm toe.
Wafers kunnen wel een maand in de fabriek blijven, waarbij ze honderden processen ondergaan voordat ze in een eindproduct terecht komen. Elke kleine vervuiling tijdens deze procesketen kan ernstige gevolgen hebben voor de totaalopbrengst van de fabriek.
De generalisatie van grotere afmetingen van wafers biedt ook een uitdaging, het drijft de kosten op van individuele wafers en vergroot de behoefte aan bescherming van gereedschap tegen nanodeeltjes en AMC.
Daarnaast oefenen de stijgende kosten van defect-vrije maskers voor EUV en multi-patterning DUV lithografie druk uit op de contaminatie-controle systemen voor zowel gehele productiefaciliteiten als kleine ruimtes zoals uitrusting voor inspectie en opslag voor maskers.
Bescherm uw procesuitrusting en wafers tegen nanodeeltjes en door de lucht verspreide moleculaire vervuiling
De oplossingen van Camfil bieden zowel in het laboratorium als in de praktijk bewezen bescherming in productieomgevingen van halfgeleiders, inclusief lithografie, etsen, diffusie, metallisatie, dunne-films, ionenimplantatie, inspectie uitrusting en opslagruimtes voor systeemrasters of wafers.
- Luchtfilters voor procesapparatuur
- Luchtfilters voor cleanrooms
- Voorfiltratie-systemen voor scanners
Zuinige en laag-ontgassende oplossingen voor systemen in productiefaciliteiten
Het assortiment van voorfilters voor deeltjes van Camfil garandeert het laagste energieverbruik in suppletie luchtbehandelingssystemen en beschermt tegelijkertijd HEPA-filters tegen verstopping en stoot geen borium uit. Door jaren van ontwikkeling van lijmen en de chemische eigenschappen van media, zijn de HEPA-en ULPA-filters van Camfil zo ontworpen dat ze zo min mogelijk organische vervuiling uitstoten (zogenaamd laag-uitgassing). Zowel de afvoersystemen voor wafersnijders als gaswassers voor de algemene afvoerback-upsystemen beschermen de omgeving tegen procesverontreiniging.
