Cleanroom technician inspecting semiconductor wafer in microelectronics manufacturing environment

Polovodiče

Zlepšite výnos svojich procesov pomocou kompletných riešení pre pokročilú výrobu polovodičov.

V závodoch na výrobu polovodičov môže aj mikrokontaminácia predstavovať obrovské problémy. Spoločnosť Camfil ponúka širokú škálu riešení – predfiltre častíc, filtre HEPA a ULPA a riešenia kontroly AMC – na zníženie akýchkoľvek koncentrácií častíc a molekúl v čistých priestoroch na úroveň ISO triedy 1 pre častice a úroveň sub-ppb pre AMC.

Odporúčané produkty

Nasledujúce produkty sú odporúčané na základe aplikácie, ktorú si vyberiete.

Molekulárna kontaminácia vzduchom (AMC) predstavuje osobitnú výzvu pre výrobu polovodičov malých rozmerov.

Airborne molecular contamination (AMC) presents a special challenge to semiconductor manufacturing in small dimensions.

Nežiaduce chemické reakcie kyselín, zásad, organických látok, žiaruvzdorných látok a dopantov môžu ovplyvňovať povrchy doštičiek a optiku procesných zariadení, čo spôsobuje chyby pri výrobe čipov a zníženú účinnosť zariadení a nástrojov.

AMC sa v kritických procesoch výroby v čistých priestoroch stáva čoraz dôležitejšou. Keďže špecifikácie sú čoraz náročnejšie a veľkosť zariadení sa zmenšuje, riadenie procesu čelí obrovskému tlaku.

Doštičky môžu stráviť celý mesiac v závode a prejdú stovkami procesov pred tým, ako sa dostanú do finálneho produktu. Akýkoľvek nepatrný vplyv kontaminácie v tomto reťazci procesov môže mať vážne následky na celkový výnos fabriky.

Ďalšou výzvou je zovšeobecnenie väčších rozmerov doštičiek, čo zvyšuje náklady na jednotlivé doštičky a zvyšuje potrebu ochrany pred nanočasticami a AMC na úrovni nástrojov.

Rastúce náklady na bezchybné masky používané v EUV a viacvrstvovej litografii DUV navyše vytvárajú tlak na systémy kontroly kontaminácie pre zariadenia aj pre mini prostredia, ako sú inšpekčné zariadenia a sklady masiek.

Ochráňte svoje procesné zariadenia a doštičky pred nanočasticami a molekulárnymi kontaminantmi vo vzduchu

Riešenia Camfil poskytujú ochranu v prostredí výroby polovodičov overenú v praxi aj v laboratóriu, vrátane litografie, leptania, difúzie, metalizácie, tenkých vrstiev, iónovej implantácie, kontrolných nástrojov a oblastí na uskladnenie mriežok alebo doštičiek.

  • Vzduchové filtre čistých priestorov
  • Predfiltračné systémy skenerov
  • Vzduchové filtre procesných nástrojov

Energeticky účinné a riešenia s nízkym odplynením pre systémy zariadení

Ponuka predfiltrov častíc Camfil zaisťuje najnižšiu spotrebu energie v doplňovacích vzduchotechnických jednotkách a zároveň chráni filtre HEPA pred upchatím, pričom funguje bez uvoľňovania bóru. Filtre HEPA a ULPA spoločnosti Camfil sú navrhnuté tak, aby po rokoch vývoja spojív a chemických vlastností médií uvoľňovali čo najmenšie množstvo organických kontaminantov (tzv. nízke odplynenie). Výfukové systémy na rezanie doštičiek a tiež práčky plynov pre všeobecné záložné výfukové systémy chránia životné prostredie pred kontamináciou.

Syntetické predfiltre bez obsahu bóru

Veľmi nízkoenergetické predfiltre

HEPA a ULPA filtre s nízkym odplynením

Zberače prachu a práčky plynov pre čistejší odvádzaný vzduch

Súvisiace články